随着现代科学技术的进步，工农业生产和国防医学业事业的发展，氢的应用范围，日益扩大，用量亦在迅速增加。
 

　　在一些电子材料的生长与衬底的制备、氧化工艺、外延工艺中以及化学气相淀积(CVD)技术中，均要采用氢气作为反应气、还原气或保护气。半导体集成电路生产对气体纯度要求*，比如氧杂质的允许浓度为10-12等。微量杂质的“掺入”，将会改变半导体的表面特性，甚至使产品成品率降低或造成废品。
 

　　在制造非晶体硅太阳能电池中，也需要用到纯度很高的氢气。非晶硅薄膜半导体是上近十年来研制成功的新材料，在太阳能转换和信息技术等方面已展示出了诱人的应用前景。
 

　　光导纤维的应用和开发已经规模使用，石英玻璃纤维是光导纤维的主要类型，在光纤预制棒制造过程中，需要采用氢氧焰加热，经数十次沉积，对氢气纯度和洁净度都有一定要求。